Einen Einblick in diese Schlüsseltechnologie der optischen Sensorik gibt das Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik (IST) auf dem Fraunhofer-Gemeinschaftsstand der Messe Laser World of Photonics in München (Halle A2, Stand 415). Im Zentrum des Messeauftritts stehen hochpräzise Interferenzfilter, die mittels Sputterverfahren hergestellt werden. Damit lassen sich sowohl linear variable Filter mit besonders großer spektraler Bandbreite als auch pixelgenau strukturierte Filterstapel für spezifische Wellenlängenbereiche realisieren – vom sichtbaren (VIS) bis in den nahen Infrarotbereich (NIR). Perspektivisch sind Systeme denkbar, die – je nach Detektor – den gesamten Spektralbereich von Ultraviolett (UV) bis Mittelinfrarot (MIR) abdecken.
Am Fraunhofer IST stehen für die Herstellung Anlagen wie die EOSS-Sputterplattform (Enhanced Optical Sputtering System) zur Verfügung. Die hohe Präzision bei der Filterherstellung erlaubt eine genau angepasste spektrale Selektion auf dem Kamerachip – ohne komplexe optische Aufbauten.
Durch den Wegfall externer Filtereinheiten reduzieren sich Größe, Gewicht und Kosten der Systeme – ein Vorteil etwa für den mobilen Einsatz. Das Vorgehen lässt sich überall dort anwenden, wo kompakte Spektroskopieinstrumente benötigt werden.
Bereits heute werden so die mittels Sputterverfahren hergestellte Interferenzfilter in der hyperspektralen Bildgebung eingesetzt, beispielsweise in der Umweltanalytik zur Schadstoffüberwachung oder in der Landwirtschaft zur Überprüfung von Pflanzenzuständen. Zudem ist die Integration der Filter in bestehende Systeme unkompliziert, da keine aufwändigen Integrationsprozesse erforderlich sind.