Die Wika Alexander Wiegand SE & Co. KG, Klingenberg (Wika), erweitert ihre Fertigungskompetenz durch den Einsatz einer Generis PECVD-Inline-Anlage von Singulus Technologies. Diese Plasmatechnologie dient der Abscheidung elektrischer Isolations- und Passivierungsschichten und wird für Anwendungen im Bereich der Sensorik eingesetzt.
Hochwertige dünne Schichten erzeugen
Mit der PECVD-Technologie (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition = Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung) von Singulus lassen sich qualitativ hochwertige, dünne Schichten im Inline-Verfahren aufbringen. Die Abscheidung elektrisch isolierender und schützender Schichten trägt besonders bei hochpräzisen Sensorbauelementen zur Leistungssteigerung und Langlebigkeit bei.
Hohes Maß an Skalierbarkeit
Singulus setzt bei der Generis PECVD auf eigens entwickelte induktiv gekoppelte lineare Plasmaquellen (ICP). Diese ermöglichen eine hohe Elektronen- und Aktivierungsdichte bei gleichzeitig niedriger Ionenenergie und sehr hohe Abscheideraten über große Substratbreiten. Vor allem die Kombination aus linearer Plasmaquelle und Inline-Verfahren bietet ein hohes Maß an Skalierbarkeit unter Beibehaltung außergewöhnlicher Schichtqualitäten. Weitere Vorteile: breite Prozessfenster, minimale Substratschädigung und geringer CO2-Footprint.