Modifizierte und neue Bauteile, veränderte Fertigungs- und Beschichtungstechnologien, neue Werkstoffe, Digitalisierung – diese und weitere Entwicklungen erfordern auch in der industriellen Teile- und Oberflächenreinigung neue und angepasste Reinigungsprozesse. Zusätzlich zu partikulären Verunreinigungen stehen filmische Kontaminationen immer stärker im Fokus, die stabil und effizient zu entfernen sind. Gleichzeitig gilt es immer strengeren Energieeffizienz- und Klimaschutzzielen gerecht zu werden. „Für diese gestiegenen Anforderungen präsentieren die Aussteller der diesjährigen parts2clean zukunftsorientierte Lösungen“, sagt Christoph Nowak, Project Director bei der Deutschen Messe AG. Das Rahmenprogramm der 20. internationalen Leitmesse für industrielle Teile- und Oberflächenreinigung informiert über Trends und Benchmark-Anwendungen.
Zu sehen sind Entwicklungen im Bereich der nasschemischen Verfahren und trockenen Reinigungstechnologien sowie Anlagen mit verbesserte Energie- und Ressourceneffizienz und Vernetzungs-Technologien. Ein Novum bei der Jubiläumsveranstaltung ist die Ergänzung der parts2clean-Kernbereiche um das Thema „High Purity“, das spezielle Lösungen beispielsweise für die Halbleiter- Zulieferindustrie, Medizintechnik, Sensortechnik, Elektronik und verschiedene Anwendungen in der Elektromobilität adressiert. Ergänzt werden die branchen-, technologie- und werkstoffübergreifende Ausstellerpräsentationen durch ein aktuelles Rahmenprogramm. „Mit Wissen und Know-how sowie Lösungsansätzen zur Prozessauslegung, -anpassung und -optimierung geht es dabei um wettbewerbsrelevante Themen, die in diesem Umfang sonst nirgendwo behandelt werden“, merkt Christoph Nowak an.