ZVO-Stipendiat liefert neue Erkenntnisse für die Beschichtungsprozesse in der Mikroelektronik

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Ein ZVO-Stipendiat hat an der TU Ilmenau seine Masterarbeit zur galvanischen Abscheidung in Mikrostrukturen erfolgreich abgeschlossen. Die Arbeit führt zu einem besseren Verständnis der Parameter für die Kupferabscheidung.

Der ZVO-Stipendiat Mahyar Emami hat seine Masterarbeit im Studiengang Elektrochemie und Galvanotechnik an der TU Ilmenau erfolgreich verteidigt. Thema war die Untersuchung saurer Kupferelektrolyte für mikrostrukturierte Vias in IC-Packages. Die Arbeit entstand in Kooperation mit Umicore Galvanotechnik und adressiert zentrale Fragestellungen der Mikroelektronikfertigung.

Einfluss organischer Additive auf die Abscheidung

Im Fokus standen die Wechselwirkungen von Suppressoren, Acceleratoren und Levellern bei der galvanischen Kupferabscheidung. Diese Additive beeinflussen maßgeblich die Ausbildung von Mikrostrukturen im Bereich weniger zehn Mikrometer. Die systematische Analyse liefert neue Erkenntnisse zu Prozessparametern und deren Einfluss auf die Schichteigenschaften.

Beitrag zur Prozessentwicklung in der Galvanotechnik

Die Ergebnisse tragen zum besseren Verständnis von Prozess-Eigenschafts-Beziehungen in der galvanischen Verkupferung bei. Damit leisten sie einen Beitrag zur Weiterentwicklung von Beschichtungsprozessen insbesondere im Hinblick auf reproduzierbare Qualität und funktionale Anforderungen.

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