Die LUM GmbH beteiligte sich als Sponsor am 10. Weltkongress zur Partikeltechnologie (WCPT 10), der vom 11. bis 15. Mai 2026 im japanischen Osaka stattfand. Im Mittelpunkt des Messe- und Vortragsprogramms standen Anwendungen der analytischen Zentrifugation für die Charakterisierung von Partikeln, Suspensionen und Emulsionen.
Ein besonderer Fokus lag auf dem Jubiläum „100 Jahre Analytische (Ultra-) Zentrifugation“, das im Rahmen einer Special Session aufgegriffen wurde. Organisiert wurde diese von Prof. Dr. Dr. Dietmar Lerche, Gründer und Geschäftsführer der LUM GmbH. Den Auftakt bildete ein Vortrag zur Entwicklung der analytischen Ultrazentrifugation und deren heutigen Einsatzfeldern.
Analytische Zentrifugation für Forschung und Industrie
Die LUM GmbH entwickelt analytische Zentrifugen für die Partikel- und Dispersionsanalyse. Systeme wie LUMiFuge und LUMiSizer werden weltweit zur Untersuchung von Sedimentationsverhalten, Stabilität und Partikelgrößen eingesetzt. Mit der später eingeführten LUMiFrac wurde das Einsatzspektrum auf Materialprüfungen von Beschichtungen und Verbundwerkstoffen erweitert.
Anwendungen von Nanopartikeln bis Beschichtungen
Im wissenschaftlichen Programm des Kongresses wurden verschiedene Anwendungen der analytischen Zentrifugation vorgestellt. Dazu zählen Untersuchungen zu Nanopartikeln, Partikel-Flüssigkeits-Wechselwirkungen, Dispersionen auf Graphenbasis sowie Methoden zur Bestimmung materialtechnischer Kennwerte. Weitere Beiträge beschäftigten sich mit Einzelpartikelanalytik und der Bestimmung von Partikelkonzentrationen im Nanobereich.
Fokus auf industrielle Prozessanalytik
Neben wissenschaftlichen Anwendungen adressiert LUM auch industrielle Fragestellungen. Vorgestellt wurden unter anderem Verfahren zur Inline-Charakterisierung konzentrierter Dispersionen sowie Ansätze zur Optimierung von Trennprozessen mithilfe analytischer Zentrifugation und numerischer Modellierung. Mit dem Auftritt auf dem WCPT 10 unterstreicht das Unternehmen die Bedeutung analytischer Messverfahren für Forschung, Materialentwicklung und industrielle Prozesskontrolle.