Die zusätzlichen Flächen sind für Anlagen vorgesehen, mit denen Halbleiterwafer bearbeitet und Fertigungsprozesse im Rahmen kundenspezifischer Beta-Tests validiert werden können. Mit der Erweiterung bereitet das Unternehmen den Übergang seines Atomic-Pitch-Splitting-Verfahrens (APS) von der Entwicklung zu Anwendungen in der industriellen Halbleiterfertigung vor.
Nach Angaben von Jonas Sundqvist, CEO von Alixlabs, schafft die zusätzliche Reinraumfläche die infrastrukturellen Voraussetzungen, um die Beta-Aktivitäten auszuweiten, Kunden bei der Bewertung der Verfahren zu unterstützen und deren Einsatzmöglichkeiten in einem fertigungsrelevanten Umfeld zu untersuchen.
Das APS-Verfahren basiert auf einem schnellen Atomlagenätzverfahren (Atomic Layer Etching, ALE) und ist für die Herstellung besonders kleiner und präziser Halbleiterstrukturen ausgelegt. Es soll eine hochauflösende Strukturierung ermöglichen und zugleich die Komplexität der Prozessschritte verringern.
Mit den erweiterten Reinraumkapazitäten können Halbleiterkunden den Ansatz im Hinblick auf künftige Anforderungen der Chipfertigung untersuchen. Im Mittelpunkt stehen dabei die Bearbeitung von Wafern, die Validierung der Prozesse und die Bewertung ihrer Eignung für industrielle Fertigungsabläufe.