PantaTec hat ein Verfahren entwickelt, mit dem sich ölige und fettige Rückstände von gestrahlten Oberflächen, aus dem Strahlmittel und der Strahlanlage entfernen lassen. Das Ergebnis ist eine höhere Reinheit der Oberflächen für dauerhaftere Beschichtungen, ein geringerer Verschleiß der Anlage, eine messbar verringerte Brand- und Explosionsgefahr und eine effektivere Strahlanlage. Viele Gründe, die für eine Implementierung des PantaTec-Verfahrens sprechen. Jede Verbesserung bedeutet eine Steigerung der GAE und damit der Wirtschaftlichkeit der Strahlanlage.
Verbesserung der GAE
Durch die richtige Implementierung des PantaTec-Verfahrens kann allein durch die Entfernung der öligen und fettigen Rückstände die Effektivität des gesamten Prozesses deutlich erhöht werden und die ursprüngliche Strahlleistung wiederhergestellt werden, was zu einer deutlichen Verbesserung der GAE führt. Eine Steigerung zwischen 10% und 20% ist realistisch – manchmal liegt sie nach Angabe des Herstellers sogar noch höher. Die PantaTec-Technologie kann bei fast allen industriellen Strahlverfahren und nahezu jeder Strahlanlage eingesetzt werden. Die Experten von PantaTec schauen sich jede Anlage genau an und passen das Gesamtsystem unter Berücksichtigung aller notwendigen Faktoren individuell an.
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Halle 2
Stand 2223