Forschungszentrum für atomare Schichtprozesse gegründet

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Ein gemeinsames Forschungszentrum für die Entwicklung und Validierung atomarer Schichtprozesse haben die Kurt J. Lesker Company und die Penn State University gegründet. Im Mittelpunkt stehen Verfahren für Anwendungen in der Halbleitertechnik, Quantentechnik, Photonik sowie Aufbau- und Verbindungstechnik.

Das neue Forschungszentrum „Kurt J. Lesker Company Atomic Scale Processing Center of Excellence“ (Aspire) ist im Nanofabrikationslabor der Penn State University im Millennium Science Complex angesiedelt. Es verbindet die Anlagentechnik von Lesker für die Atomlagenabscheidung (Atomic Layer Deposition, ALD) und das Atomlagenätzen (Atomic Layer Etching, ALE) mit der Forschungs- und Charakterisierungsinfrastruktur der Universität, wie Lesker mitteilt.

Ziel der Zusammenarbeit ist es, Verfahren zur Materialbearbeitung auf atomarer Ebene zu entwickeln und zu validieren. Die Forschung konzentriert sich auf Anwendungen in der Halbleitertechnik, Quantentechnik, Photonik sowie in Packaging-Technik. Die entwickelten Prozesse sollen künftig sowohl Kunden des Anlagenherstellers als auch Forschungseinrichtungen zur Verfügung stehen.

Die Gründung des Zentrums baut auf einer Forschungskooperation auf. In dieser wurden bereits ferroelektrische Dünnschichten aus Aluminium-Scandium-Nitrid (AlScN) entwickelt, die mittels plasmaunterstützter Atomlagenabscheidung hergestellt wurden. Nach Angaben der Kooperationspartner handelt es sich um die weltweit ersten auf diese Weise erzeugten ferroelektrischen AlScN-Dünnschichten.

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