(engl. Ion beam Mixing). Mittels PVD-Verfahren wird eine dünne Anfangsschicht aufgetragen, die dann durch Ionenbeschuss mit dem Grundmaterial des Substrats vermischt wird. Die Ionen dienen hier nicht zum Einbau, sondern wegen ihrer kinetischen Energie zum Durchmischen. Daher reichen zum Einsatz auch leicht zu produzierende Gasionen.
siehe auch Ionenstrahlmischen
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