Spatial ALD

Die räumliche Atomlagenabscheidung (Spatial ALD) ist eine Weiterentwicklung des klassischen ALD-Verfahrens. Im Gegensatz zur herkömmlichen ALD, bei der die Reaktanten zeitlich getrennt auf das Substrat aufgebracht werden, erfolgt bei Spatial ALD die Trennung räumlich. Hierbei wird das Substrat kontinuierlich unter stationären Gasdüsen bewegt oder umgekehrt. Dadurch können die Reaktanten gleichzeitig, aber räumlich getrennt, eingesetzt werden, was den Prozess erheblich beschleunigt. Durch die kontinuierliche Bewegung des Substrats können Schichten deutlich schneller abgeschieden werden, der Materialverbrauch wird reduziert, da weniger Präkursoren verschwendet werden. Und Spatial ALD eignet sich für großflächige Beschichtungen und komplexe Geometrien.