Verfahren zur Übertragung eines Leiterbahnmusters auf ein Basismaterial bei der Herstellung von Leiterplatten. Dabei wird das Basismaterial mit einem lichtempfindlichen Resist beschichtet. Der Resist wird mit einem Laser oder über eine Maske selektiv belichtet. Beim anschließenden Entwickeln werden je nach Art des Resists (Positiv- bzw. Negativresist) die belichteten oder die unbelichteten Stellen abgelöst.