unter Ionenstrahlbeschichten versteht man den Beschuss des Substrats mit Ionen, die aus einer externen Ionenquelle gewonnen wurden. Das Ergebnis ist entweder eine Schicht, die nur im Grenzbereich zum Grundmaterial mittels Ionen durchmischt ist und dann durch reines Aufdampfen weiterwächst oder eine Schicht, die unter ständigem Ionenbeschuss aufwächst. Die Schichten zeichnen sich durch hohe Dichten, Poren- und Fehlerfreiheit aus. In ungünstigen Fällen werden jedoch auch Defekte im Grundmaterial ausgelöst. Anstelle einer direkten Beschichtung kann der Ionenstrahl auch ein Target erstäuben, um Dampfteilchen für eine Beschichtung bereitzustellen.