ist ein Sammelbegriff für physikalische und chemische Vakuumbeschichtungsverfahren (PVD- und CVD-Verfahren), wobei davon ausgegangen wird, dass mit diesen Verfahren wirtschaftlich Schichtdicken bis ca. 10 µm erzeugt werden können.
siehe CVD-Verfahren, PVD-Verfahren, Sputternund Ionenimplantation