CNp-Reinigungsverfahren

CNp-Reinigungsverfahren

Das Reinigungsverfahren der "zyklischen Nukleation" (Englisch: Cyclic Nucleation process - CNp) ist relativ neu und noch weniger bekannt. Es eignet sich für Reinigungsaufgaben, die bisher mittels der wasserbasierten Reinigungstechnik nicht und gegebenenfalls auch mit lösemittelbasierter Technik nur schwer zu erfüllen waren. Das Vakuum-Flutreinigungsverfahren arbeitet nach dem Prinzip der Zyklischen Nukleation, einem Wechseldruckverfahren mit besonderen Stärken bei der Reinigung von kapillaren Strukturen und komplexen Geometrien. Die Wirkmechanismen zeigen sich durch den kavitätischen Effekt unmittelbar auf der gesamten medienberührten Bauteiloberfläche sowie zwischen dem Bauteil und der Verunreinigung. Hinzu kommt die Erzeugung eines asymmetrischen Volumenstroms in kapillaren und damit schwer erreichbaren Bauteilbereichen.

Der CNp-Effekt lässt sich mit klassischen verfahrenstechnischen Grundprinzipien erzeugen, indem eine mit Medium (z. B. eine Reinigungsflüssigkeit) gefüllte, geschlossene Kammer mit Unterdruck beaufschlagt wird. Die hierbei entstehenden Gasblasen bilden sich auf alle reaktiven Oberflächen, auch in komplexen Strukturen wie etwa Kapillaren und Bohrungen. Bei plötzlicher Wegnahme des Unterdrucks fallen diese wieder in sich zusammen (implodieren) und erzeugen einen Druckschlag (kavitätischer Effekt) mit einer mechanischen Wirkung auf der Bauteiloberfläche – gerade in verdeckten oder kapillaren Bereichen.

Der entscheidende waschmechanische Effekt besteht in der Bestimmung eines fest eingestellten Zykluses zwischen einem definierten unteren Schaltpunkt im Vakuum und einem oberen Schaltpunkt im Unterdruck oder gegebenenfalls auch im Überdruck, der beliebig oft wiederholt und variiert werden kann. Daher der Begriff „Zyklische Nukleation“. Bei den physikalischen Effekten handelt es sich prinzipiell um dieselben, wie sie bei den bekannten Ultraschallprozessen auftreten. Der Kavitationseffekt ist zwar tendenziell schwächer, allerdings entfaltet sich dieser auch zwischen der Verunreinigung und dem Substrat – und das auf der gesamten Bauteiloberfläche, auch im Innenraum von komplexen 3D-Strukturen, in den Ultraschall nur bedingt vordringen kann. Dieses Verfahren kann somit allein oder auch ergänzend zu klassischen Reinigungsverfahren angewendet werden.

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