INP entwickelt Alternative zu PFAS-Schichten

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Das Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e.V. (INP) in Greifswald hat eine neuartige Methode zur Herstellung ultrahydrophober siliziumorganischer Polymerschichten entwickelt. Diese Schichten sind eine Alternative zu per- und polyfluorierten Verbindungen - PFAS-Schichten.

Die jüngst vom INP entwickelte siliziumorganische Polymerschicht ist eine vielversprechende und umweltfreundliche Alternative zu PFAS-Schichten. Sie basiert auf Plasmatechnologie und ist mechanisch und chemisch stabil, bis zu 200 nm dick und deckend, lagerbar, waschstabil und reproduzierbar. Die Schichten lassen sich auf vielen Materialien – Metallen, Kunststoffen und Halbleitern – aufbringen.

Veredelungen in der Medizintechnik

Aufgrund dieser Eigenschaften und der Anwendbarkeit auch auf thermolabilen Kunststoffen ist die siliziumorganische Polymerschicht geeignet für Veredelungen in der Medizintechnik. So lässt sie sich auch in der Herstellung oder Oberflächen-Modifizierung implantierbarer Geräte (Herzschrittmacher, künstliche Gelenke, etc.) verwenden.

Konzepte zur Aufskalierung als nächster Schritt

Aktuell forscht INP bereits an der Überführung des Niederdruckprozesses zur Abscheidung der siliziumorganischen Polymerschicht auf einen Normaldruckprozess. Die Forschenden befassen sich zudem mit Konzepten zur Aufskalierung der Technologie.

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