Eindiffundieren von Silicium in fertig bearbeitete Stahloberflächen, wobei Silicium aus Siliciumhalogeniden oder durch Reaktion von Siliciumcarbid mit Chlor bei 950–1000 °C freigesetzt wird und in die Oberfläche eindiffundiert. Es entsteht eine 100–250 µm starke spröde Schicht, die maßlich aufträgt.