steht für (Ion Beam Assisted Deposition) Ionenstrahlgestützte Abscheidung. Der Beschuss mit Ionen während der Beschichtung führt zum dynamischen Ionenstrahlmischen. Außer einer guten Schichthaftung bringt dieses Verfahren eine Möglichkeit zur reaktiven Prozessführung. Mit diesem Verfahren sind Schichtdicken bis in den µm-Bereich realisierbar. Unter anderem weisen diese Schichten eine hohe Verschleißfestigkeit auf.
IBAD
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