ist eine Variante des Ionenstrahlmischens. Durch die genaue Einstellung eines schmalen Tiefenprofils der eingeschossenen Ionen in den Bereich zwischen Deckschicht und Substrat beschränkt man die Durchmischung nur auf diesen Zwischenraum. Dadurch wird die Haftfestigkeit gesteigert, ohne dass sich unerwünschte Eigenschaftsänderungen der Deckschicht ergeben.