ist eine Variante des ARE-Verfahrens, bei dem das Substrat auf negativem Potential liegt und deshalb einem intensiveren Ionenüberschuss ausgesetzt ist.
Zurück
► Aus dem mo Lexikon der Oberflächentechnik - in der Übersicht finden Sie weitere Begriffe.
Der Newsletter der Oberflächenbranche - kostenfrei die Surface-News bestellen!
Jetzt abonnieren