Trockenätzverfahren

Alle Trockenätzverfahren benutzen zum Ätzen eine chemische Reaktion zwischen einer gasförmigen Spezies und der Oberfläche der zu ätzenden Schicht, wobei ein flüchtiges Reaktionsprodukt entsteht. Die chemische Reaktion erfolgt entweder spontan oder durch Beschuss mit Elektronen, Ionen oder Photonen. Es gibt viele Trockenätztechniken, die sich in der Art des Gases, im Druck und in der Elektrodenanordnung unterscheiden. Die Verfahren werden in vier Hauptgruppen zusammengefasst:

Physikalisches Ätzen:

Verwendung von Edelgasionen, um Material von einer Oberfläche abzutragen (absputtern); die Verfahren ermöglichen die Herstellung anisotroper Strukturen. Sie sind nicht selektiv; zu den physikalischen Ätzverfahren zählen Ionenätzen und Ionenstrahlätzen

Chronisches Ätzen:

infolge der Reaktion zwischen der Oberfläche und dem Ätzgas bildet sich eine leichtflüchtige, chemische Verbindung, die abgepumpt wird. Die Verfahren sind isotrop, aber selektiv.

Physikalisch-Chemisches Ätzen:

die Kombination von chemischem und physikalischem Ätzen ermöglicht die Kombination anisotroper Strukturen mit einem selektiven Ätzprozess. Zu den Verfahren zählen das reaktive Ionenätzen und das reaktive Ionenstrahlätzen.

Photochemisches Ätzen:

Das Ätzen der Oberfläche durch auftreffende Photonen ermöglicht die Herstellung anisotroper Strukturen in einem selektiven Ätzprozess.