Ionenstrahlmischen

 

Im Ionenstrahlmischen verknüpft man das Vakuumbeschichtungsverfahren (Bedampfen, Sputtern) mit der klassischen Ionenimplantation. Dabei werden kurze Prozesszeiten erzielt, da die Ionendosis eine Größenordnung kleiner ist (1016 Ionen/cm²) als bei der Ionenimplantation. Außerdem benutzt man bei diesem Verfahren keinen masseseparierten Ionenstrahl, so dass das Prozesshandling einfacher wird. Man kennt zwei Varianten des Ionenstrahlmischens:

● statisches Ionenstrahlmischen (Ion Beam Mixing)

● dynamischen Ionenstrahlmischen, auch ionenstrahlgestützte Beschichtung genannt.

siehe auch IBAD (ion beam assisted deposition)