Ionenplattieren

Das Ionenplattieren ist ein zu den PVD-Verfahren gehörende vakuumbasierte und plasmagestützte Beschichtungstechnik, bei der eine höherwertige Metallschicht auf ein anderes Metall aufgebracht wird. Zunächst wird die Substratoberfläche mittels Ionenbeschuss aus dem Plasma gereinigt. Anschließend wird aus einer Verdampferquelle Metalldampf zugeführt. Dieser ionisiert teilweise im Plasma und wird durch eine negative Vorspannung (0,3–5 kV) am meist vorgeheizten Substrat auf dessen Oberfläche beschleunigt und bildet auf dem Substrat eine Schicht aus dem verdampften Material. Durch den ständigen Beschuss mit Metallionen wird immer wieder ein Teil des Substrats bzw. der Schicht abgetragen. Die gelösten Atome kondensieren wieder auf dem Substrat und tragen zur Schichtbildung bei. Der ständige Ionenbeschuss modifiziert die Schichteigenschaften (verbesserte Haftung der Schicht). Die entstehende Schichtstruktur hängt dabei stark von der Temperatur des Substrats ab.