Funkenerosives Polieren

Ziel des funkenerosiven Polierens (abgeleitet vom funkenerosiven Senken) ist die Erzeugung glatter und glänzender Oberflächen. Entsprechend dieser Zielsetzung ist ein hoher Materialabtrag, verbunden mit tiefen Kratern, unerwünscht. Vielmehr wird ein Aufschmelzen der Rauheitsspitzen und das anschließende Wiedererstarren ohne Ausschleudern des flüssigen Metalls angestrebt. Die Struktur funkenerosiv polierter Oberflächen ist gekennzeichnet durch sich aneinanderreihende und überlagernde Entladekrater, die jedoch sehr flach, weitgehend kreisrund und in etwa alle gleich groß sind.